荷蘭ASML(阿斯麥)公司表示,從明年起,基本不能獲得對大陸出口的TWINSCAN NXT:2000i及後續推出的關鍵浸潤式DUV系統的出口許可。
據財新網9月2日報道,當地時間9月1日,荷蘭政府發布的《先進半導體製造設備法規》生效。
阿斯麥對此表示,隨著9月1日荷蘭政府頒布的半導體設備出口管制新規正式生效,阿斯麥發運TWINSCAN NXT:2000i及後續推出的浸潤式光刻系統都必須獲得荷蘭政府的許可。
在新的出口管制條例下,今年年底前阿斯麥仍然能夠履行與客戶簽訂的合同。阿斯麥的客戶也已知悉出口管制條例所帶來的限制,即自2024年1月1日起,阿斯麥將基本不會獲得向中國客戶發運這些設備的出口許可證。
阿斯麥表示,預計出口管制條例不會對公司的2023年財務展望或長期展望產生實質性影響。
荷蘭政府稱,先進半導體可以為某些先進的軍事應用做出關鍵貢獻,因此,不受控制的商品和技術出口可能構成國家安全風險。
另外,日本政府在5月23日發布出口管制規定,限制23種高性能半導體製造設備出口,新規在7月23日施行。
荷蘭ASML公司(全稱: Advanced Semiconductor Material Lithography),中文名稱為阿斯麥(中國大陸)、艾司摩爾(台灣)。
阿斯麥的總部設在荷蘭埃因霍溫(Eindhoven),是全球最大的半導體設備製造商之一,向全球複雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。
光刻機(lithography)又名掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是製造晶片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。
高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,其製造難度之大,全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭阿斯麥、日本尼康(Nikon)和日本(佳能)Canon三大品牌為主。而ASM在該領域居於壟斷地位。#
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