ASML部分DUV光刻機明年起不再對華出口

荷蘭ASML（阿斯麥）公司表示，從明年起，基本不能獲得對大陸出口的TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的關鍵浸潤式DUV系統的出口許可。

據財新網9月2日報道，當地時間9月1日，荷蘭政府發布的《先進半導體製造設備法規》生效。

阿斯麥對此表示，隨著9月1日荷蘭政府頒布的半導體設備出口管制新規正式生效，阿斯麥發運TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統都必須獲得荷蘭政府的許可。

在新的出口管制條例下，今年年底前阿斯麥仍然能夠履行與客戶簽訂的合同。阿斯麥的客戶也已知悉出口管制條例所帶來的限制，即自2024年1月1日起，阿斯麥將基本不會獲得向中國客戶發運這些設備的出口許可證。

阿斯麥表示，預計出口管制條例不會對公司的2023年財務展望或長期展望產生實質性影響。

荷蘭政府稱，先進半導體可以為某些先進的軍事應用做出關鍵貢獻，因此，不受控制的商品和技術出口可能構成國家安全風險。

另外，日本政府在5月23日發布出口管制規定，限制23種高性能半導體製造設備出口，新規在7月23日施行。

荷蘭ASML公司（全稱： Advanced Semiconductor Material Lithography），中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（台灣）。

阿斯麥的總部設在荷蘭埃因霍溫（Eindhoven），是全球最大的半導體設備製造商之一，向全球複雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。

光刻機（lithography）又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。

高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭阿斯麥、日本尼康（Nikon）和日本（佳能）Canon三大品牌為主。而ASM在該領域居於壟斷地位。#

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