受中共誘惑洩晶片尖端技術 6韓企員工被起訴

在高薪的誘惑下，涉嫌將韓國國家核心技術半導體晶片化學機械拋光（CMP）技術洩露給中共的6名韓國企業員工，近日被查處並移交法院審理。

韓國專利廳技術警察和檢方1月26日表示，以違反《產業技術保護法》及《不正當競爭防止法》的嫌疑拘留起訴了3人，不拘留起訴了3人。他們都是韓國兩家大企業和一家中堅企業前任和現任員工。

據韓國專利廳透露，他們涉嫌使用電腦和業務用手機登錄公司內網，閱覽機密資料，並使用私人手機拍照後洩密給中國企業。他們提供的資料，包含了很多半導體晶片拋光相關的尖端技術和商業秘密。

調查顯示，主犯A某（55歲）2018年在晉陞高管過程中被淘汰，於2019年6月與中國企業約定共同經營半導體晶片機械化學拋光液製造事業，之後繼續在公司工作，通過聊天工具等方式管理中國機械化學拋光液生產設備的構建和事業。

接著，A某挖走在其它韓企工作的B某（52歲）、C某（42歲）和D某（35歲）3人，這三人從2019年9月開始分別跳槽到中國企業，擔任副社長、組長、組員級別的職務，隨後他也在2020年5月開始跳槽到中國企業，擔任社長級別的職務。

經確認，他們在中國拿到的年薪是韓國內的2至3倍以上，除此之外還可獲得在當地的各種優待。

韓國專利廳技術警察方面透露，在遭受損失的3家企業中，僅規模最小的企業的損失額就達1千億韓元（約合800多萬美元）以上。A某工作過的公司，在洩露的資料被中國正式利用之前，A某被拘留，避免了進一步的損失。

技術被洩露的三家韓企是製造化學機械拋光液、化學機械拋光墊等半導體工程材料或製造存儲器半導體的上市公司，總市值達66萬億韓元（約合53億多美元）。

韓國專利廳產業財產保護合作局局長金時亨（Kim Si-hyung）表示，「將進一步加強技術警察的作用，帶頭守護國家核心技術，為了不讓優秀的半導體研究人員跳槽到海外，受到技術外洩的誘惑，我們將努力提供再就業的機會，從根本上杜絕技術犯罪。」

據韓國大檢察廳1月17日公布的統計數據，從2017年到2022年9月的最近5年間，韓國產業技術洩露到海外事件共被揭發了112件，其中，國家核心技術洩露事件達36件。

大檢察廳估算，5年間造成的損失將達到26.931萬億韓元（約合20多億美元）。這還只是推算企業研究開發費、預期銷售額等的金額。

韓國科學技術院（KAIST）校長李光炯（Lee Kwang-hyung）在1月12日大檢察廳主辦的演講中呼籲，「三星和LG開發的液晶顯示器（LCD）、發光二極管（LED）技術被中國奪走主導權，其原因就是人力流失和技術流失」,「現在也有很多人才流失到中國，希望檢方徹底調查並管制技術洩露犯罪」。

在顯示面板領域，三星、LG兩家韓國公司依靠自己開發的液晶顯示器、發光二極管技術，曾經是市場上的最強者，然而最近幾年來被中國廠商追趕上來。@

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