韓企三星和SK海力士長期以來是中共技術偷竊的主要對象。最近再有兩宗三星顯示器和SK海力士晶片的核心技術盜竊事件被公開，涉嫌的前三星研究員和韓企高管分別被捕和獲刑。

南韓檢方近日以涉嫌違反《不正當競爭防止法》（將商業秘密洩露到國外），起訴了前三星顯示器（SDC）首席研究員A某（49歲）。他涉嫌從2018年到2020年5月試圖將三星顯示器的商業秘密OLED顯示器ELA（Excimer Laser Annealing）設備反轉光學系統，以及OCR噴墨設備相關技術洩露給中國企業。

ELA設備反轉光學系統是指維持向OLED顯示屏電子電路發射的激光強度和安全性的裝置。OCR噴墨設備是OLED顯示屏的面板和玻璃蓋板粘合的設備。這兩項技術都是三星顯示器有機發光二極管（OLED）製造的核心技術，經濟價值至少達3,400億韓圜（約25億美元）。

A某是在三星顯示器工作了10年以上的OLED顯示器領域的專家。他從三星顯示器退休後在南韓設立並營運了顯示器企業B公司，在中國設立了C公司。他將三星的OLED顯示器技術轉移到B公司後，試圖再將技術通過C公司向中國企業銷售。為此，他還把在三星顯示器任職時積累交情的研究員、職員、朋友也牽入了犯罪中。

與A某共謀的5名同夥於2020年8月被起訴，其中，前三星顯示器研究員等3人被判處有期徒刑1~2年，朋友等2人被判處有期徒刑緩期執行。當時作為主犯的A某逃往中國，今年5月他主動回到南韓，接受了檢察機關的調查。 

另外，首爾中央地方法院上月中旬判處SK海力士的合作企業副社長D某（59歲）有期徒刑1年。

SK海力士的合作企業被判罰款4億韓圜（約30萬美元），同時被起訴的7名職員被判處有期徒刑8個月到1年6個月的緩期執行或罰款。他們於2021年1月曾因涉嫌違反《產業技術保護法》和《不正當競爭防止法》被起訴。

D某等人涉嫌從2018年開始，把與SK海力士合作過程中掌握的HKMG半導體製造技術和清潔配方等半導體相關核心技術、商業秘密洩露給中國半導體競爭企業。

HKMG是防止電流洩漏、改善靜電容量的新一代工程，是既能加快DRAM半導體的速度，又能減少消耗電力的新技術。

他們還涉嫌利用從三星電子和子公司Semes前任職員那裏偷偷獲得的超臨界清洗設備的圖紙等半導體尖端技術和商業秘密，開發了可以出口中國的設備。超臨界技術是利用二氧化碳清洗半導體基板，將損傷最小化的新一代技術，被南韓產業通商資源部指定為國家核心技術。

檢方表示，由於這些人的被查處，阻止了HKMG半導體製造技術的進一步被洩露，使用被洩露的技術製造的半導體超臨界清洗設備向中國出口也被切斷。

九成技術遭中共竊取 韓政府擬加強處罰

根據南韓法務部《強化技術洩露犯罪量刑標準》的資料顯示，南韓產業技術洩露到海外的揭發件數在最近6年間（2017年至2022年）共達117件，其中36項為國家關鍵技術。洩露到海外的所有案例中，92.3%是中國。 

儘管南韓的產業技術頻繁被竊取，可是處罰過輕的問題一直備受輿論和產業界指責。全經聯的資料顯示，2021年因違反產業技術保護法而被處理的一審刑事公審案件中，60.6%判無罪，27.2%判緩期執行。即每10人中有8人即使犯下技術洩露犯罪也沒有入獄。

南韓產業通商資源部今年8月底表示，「目前處罰水平較低的原因是量刑標準和構成犯罪條件存在漏洞，計劃首先強化處罰標準。」

產業通商資源部表示，已經向量刑委員會提交了要求對技術洩露犯罪量刑標準進行分離強化的意見，也就是說，要另行設定國家核心技術洩露等的量刑標準。量刑委員會在審議標準案後，於明年1月左右確定，預計最終表決將在明年3月進行。

另外，產業通商資源部還表示，將把通過外國私募基金的收購合併（M&A）等此前在制度上未能限制的主要技術洩露途徑也包括在限制對象中。@

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