美東時間周四（11月25日）晚，美國晶片製造商美光科技公司和台灣聯合微電子公司（UMC）達成全球和解協議，同意在長達數年的知識產權法律糾紛後撤回對彼此的訴狀。

路透社報道，雙方在周四的聲明中表示，聯電將一次性向美光支付一筆未公開的金額，但沒有詳細說明他們達成撤訴協議的原因。

美光指控聯電公司盜用商業機密，並將其轉交給一家中共政府支持的公司。聯電則指控美光在中國的兩家子公司侵犯其專利。

聯電在台灣時間周五表示，將向美光一次支付金額保密的和解金，雙方將各自撤回向對方提出的訴訟，雙方並將共創商業合作機會。

聯電特別指出，本和解對本公司財務業務並無重大影響。

雙方同意撤回訴訟之際，正值美國政府進一步擔憂技術盜竊，尤其是與中共有關的技術盜竊之際。

2018年11月1日，美國司法部正式起訴中國福建晉華集成電路（簡稱福建晉華）公司以及台灣的聯華電子公司，指控他們共謀從美國半導體巨頭美光科技公司竊取商業機密。

除了這兩家公司，還有三名台灣個人也一併遭受指控。起訴書說，涉案三名台灣男子曾是美光在台灣子公司的高管，但在加入聯電前後竊走美光的技術，目的是要轉移給僅成立兩年的福建晉華公司。

去年10月28日，在聯電承認竊取美光的設計，並將其與中共國家支持的福建晉華公司共享後，美國對聯電罰款6000萬美元。

聯電當時表示，管理層不知道之前為美光工作的三名員工未經授權的行為。

作為認罪協議的一部份，美國檢方同意撤銷對聯電涉嫌竊取美光專利信息的經濟間諜和共謀盜竊這兩項重罪指控。檢察官透露，將在2021年尋求對福建晉華的審判結果。

福建晉華否認有不當行為。

2018年底，美國商務部將福建晉華列入實體名單，禁止美國公司與其開展業務。路透社報道，分析師表示，這家中國公司此後停止了晶片生產計劃。#

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