中共晶片之殤：關鍵技術落後ASML至少20年？ 過去幾周，中共官媒大肆宣傳國產極紫外光（EUV）光刻技術取得「重大突破」，引發國際關注。EUV光刻機是當前全球最先進的晶片製造設備... 上海光機所國產極紫外光ASMLEUV光刻機中國科學院林楠中共官媒 2025年8月6日
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