周四（12月15日），美國商務部將36家中共科技企業和實體列入貿易黑名單「實體清單」，其中包括上海微電子裝備集團有限公司（簡稱上海微電）。因為上海微電是中共光刻機產業的龍頭企業，美方此舉將重創中共先進光刻機產業，乃至晶片自給自足野心。
美國商務部將這些公司列入實體名單（Entity List），意味著任何試圖向它們提供美國技術的公司和個人都需要獲得美國政府的許可，且這種許可很難獲得。在這些上到新黑名單的公司中，有21家還受到進一步限制——外國直接產品規則（FDPR）——禁止外國公司向中國實體銷售採用美國技術或設備生產的商品，其中包括上海微電。
今年2月，上海微電被美國商務部納入出口觀察清單，而周四被正式列入出口管制清單。美方認為上海微電支持中共軍事現代化。
美國還制裁了上海集成電路研發中心，這是一家由上海市政府支持的公司，致力於在不使用美國技術情況下製造國產晶片。
缺先進光刻機 中共無法製造先進晶片
上海微電子，更廣為人知的名稱是SMEE，是中國唯一一家能夠生產用於高端半導體開發的先進光刻設備的中國公司，在中共晶片自給自足計劃中佔據重要地位。
中國目前無法製造先進的晶片，例如用於最新智能手機的晶片，主要是因為中國無法生產最先進的光刻機，而該領域目前由荷蘭公司阿斯麥（ASML Holding）主導。
雖然SMEE是中國唯一的光刻機製造商，但其設備只能生產90納米節點的晶片，離尖端光刻機還很遠。
SMEE今年年初已經交付了首台2.5至3維先進封裝光刻機，但分析人士稱，封裝光刻機用於晶圓封裝，屬於晶片製造的後道工序。相比之下，晶圓製造是一個前端過程，需要更複雜的機器。
中國芯謀諮詢（ICwise）研究總監宋長庚此前對《南華早報》說，「我們目前卡在40納米以下分辨率的晶圓製造光刻機，目前還沒有取得明顯成果。」
「如果中國（中共）想在半導體行業達到一定程度的自力更生……中國工具供應商需要為代工廠開發光刻工具，技術需要足夠好才能與ASML、佳能和尼康競爭。」台灣Isaiah Research副總裁Lucy Chen今年2月對《南華早報》說。
缺乏外國供應商協助 中共自給自足幾無可能
阿斯麥生產的光刻機對於生產最先進晶片至關重要，該公司在該領域的技術優勢是目前世界上任何一家公司都無法比擬的，也是全球唯一一家能夠供應7納米及以下晶片所需的EUV（極紫外）光刻機的廠商。美國最新制裁限制SMEE獲得先進技術和產品，使得該公司更難以提升光刻機生產水平。
據悉，在2021年的全球光刻機市場，荷蘭ASML獨佔了79.4%的市場份額，尼康與佳能分別佔據10.4%和10.2%的市場份額。和ASML相比，尼康處於較大劣勢，其核心能力集中在最低端的UV（i－line）光刻機領域以及次高端的DUV領域。
由於美國禁令，ASML從2018年起就被禁止向中國出口EUV設備，美國擔憂中共取得最先進半導體技術的話，可能會被用於軍事用途，打造出更具威脅性的武器裝備，今年10月拜登政府新半導體禁令出爐後，ASML也要求旗下的美籍員工禁止為中國客戶提供服務。
但是中國公司憑藉目前能夠取得的深紫外光刻機（DUV）設備，仍然一步步推進半導體技術。
美國一直在游說其合作夥伴，包括日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。彭博社不久前報道，荷蘭政府有意對半導體製造設備出口至中國祭出新的管制。
雖然荷蘭還沒有做出最終決定，目前披露的資訊顯示，荷蘭考慮禁止向中國銷售能夠用於14納米及更先進製程的半導體設備，符合美國對邏輯晶片製造設備的限制，也代表ASML的浸潤式微影設備恐怕無法出口至中國。
對中共晶片產業來說，荷蘭參與制裁毫無疑問是毀滅性的打擊，缺乏ASML等美國以外供應商的設備，中共晶片自給自足幾乎是不可能的任務。
即使先不談技術先進與否的問題，中國半導體設備產業規模都太小，研究機構伯恩斯坦（Bernstein）資料顯示，直到2021年為止，中國國產半導體設備最多只能滿足國內12%的需求，其餘都得依賴外國供應商。
伯恩斯坦半導體分析師Mark Li認為，中共離半導體的自給自足還差得遠，假如缺乏外國供應商的協助，他們不太可能打造出能夠順利運行的產線。#
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