美國官員正試圖說服荷蘭政府，以禁止向中企銷售荷蘭製造的深紫外光（DUV）光刻機，如果成功的話，這將重挫中共當局試圖主導世界半導體生產的野心。

總部位於荷蘭的艾司摩爾（ASML）是世界上最大的光刻機（Mask Aligner，又稱曝光機）製造商，這是一種半導體製造的關鍵裝置。

根據目前的限制，ASML不得向中企出售他們最先進的極紫外光（EUV）光刻機。彭博社在報道中指出，美國官員正試圖說服荷蘭官員擴大限制，禁止向中企銷售較低階的深紫外光（DUV）光刻機。

僅管DUV光刻機技術較為落後，但其製造出來的晶片，仍可用於電動車、移動電子設備、電腦甚至機械人等設備。

一旦通過這項舉措，意味著荷蘭將禁止ASML向中企銷售幾乎所有的光刻機，這對北京來說，將是一個重大挫折。

消息人士向彭博社透露，美國商務部副部長Don Graves在5月下旬與6月初訪問荷蘭和比利時之際，即提出了這個提議。在這次訪問中，Graves還參觀了ASML總部，並會見了行政總裁Peter Wennink。

不過，說服荷蘭政府擴大禁令並不容易。據彭博社彙編的數據，中國或國際公司經營的中國工廠訂單，約佔ASML2021年總收入的14.7%。

Wennink今年早先時候說，ASML反對禁止向中企銷售DUV光刻機。他說，這已是一項成熟的技術，世界上其它公司也能生產類似設備。

DUV光刻機可分為兩個大類，分別是浸入式和乾燥式，浸入式稱為氟化氬浸入式（argon fluoride immersion）光刻機，或簡稱為ArFi光刻機。

據中國方正證券統計，ASML在2021年售出了81套ArFi系統，而日本的尼康公司只售出了4套，這意味著這間荷蘭公司擁有約95%的市場份額，若他們停止向中國銷售，其它公司無法很快取代它們。

美國官員認為，現代晶片封裝技術的進步，使中企有能力設計和生產相當複雜的晶片，這可能推動中國的超級計算，並最終推動其軍事技術發展。

台灣經濟研究院分析師Johnson Wang表示：「對於半導體製造來說，光刻設備是中國最難取得替代品的設備。若無法取得國外的DUV光刻設備，中國晶片產業的進展可能停滯不前。」#

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