美國官員正試圖說服荷蘭政府,以禁止向中企銷售荷蘭製造的深紫外光(DUV)光刻機,如果成功的話,這將重挫中共當局試圖主導世界半導體生產的野心。

總部位於荷蘭的艾司摩爾(ASML)是世界上最大的光刻機(Mask Aligner,又稱曝光機)製造商,這是一種半導體製造的關鍵裝置。

根據目前的限制,ASML不得向中企出售他們最先進的極紫外光(EUV)光刻機。彭博社在報道中指出,美國官員正試圖說服荷蘭官員擴大限制,禁止向中企銷售較低階的深紫外光(DUV)光刻機。

僅管DUV光刻機技術較為落後,但其製造出來的晶片,仍可用於電動車、移動電子設備、電腦甚至機械人等設備。

一旦通過這項舉措,意味著荷蘭將禁止ASML向中企銷售幾乎所有的光刻機,這對北京來說,將是一個重大挫折。

消息人士向彭博社透露,美國商務部副部長Don Graves在5月下旬與6月初訪問荷蘭和比利時之際,即提出了這個提議。在這次訪問中,Graves還參觀了ASML總部,並會見了行政總裁Peter Wennink。

不過,說服荷蘭政府擴大禁令並不容易。據彭博社彙編的數據,中國或國際公司經營的中國工廠訂單,約佔ASML2021年總收入的14.7%。

Wennink今年早先時候說,ASML反對禁止向中企銷售DUV光刻機。他說,這已是一項成熟的技術,世界上其它公司也能生產類似設備。

DUV光刻機可分為兩個大類,分別是浸入式和乾燥式,浸入式稱為氟化氬浸入式(argon fluoride immersion)光刻機,或簡稱為ArFi光刻機。

據中國方正證券統計,ASML在2021年售出了81套ArFi系統,而日本的尼康公司只售出了4套,這意味著這間荷蘭公司擁有約95%的市場份額,若他們停止向中國銷售,其它公司無法很快取代它們。

美國官員認為,現代晶片封裝技術的進步,使中企有能力設計和生產相當複雜的晶片,這可能推動中國的超級計算,並最終推動其軍事技術發展。

台灣經濟研究院分析師Johnson Wang表示:「對於半導體製造來說,光刻設備是中國最難取得替代品的設備。若無法取得國外的DUV光刻設備,中國晶片產業的進展可能停滯不前。」#

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