近日有消息說,中共為避開美國的制裁和荷蘭廠家的脫鉤,計劃投資兩家日本企業,生產晶片設備。分析認為,大陸企業在自身晶片技術落後的情況下,短期內很難與外企合作研發光刻機。

《日經新聞》引述業界知情人士的消息說,在得不到荷蘭阿斯麥爾公司(ASML)極紫外(EUV)光刻機的情況下,大陸企業計劃繞道投資日本尼康(Nikon)和佳能(Canon)兩家公司,研發EUV光刻機之外的其它光刻設備。目前,全球EUV光刻機領域,只有荷蘭ASML一家公司具備生產能力。荷蘭政府今年1月份根據瓦森納國際協議,叫停ASML向大陸出口EUV光刻機。

光刻機使用需長期摸索

報道引述分析表示,全球最大晶片代工廠台積電從7納米加強版晶片才開始使用EUV光刻機,但過程中,台積電與ASML經過了10年以上的合作與協調才能成功導入EUV,中國(中共)砸錢與日企合作研發光刻機,短期內困難重重。

據悉,目前大陸的最高晶片技術是14納米製程。

分析認為,半導體生產中關鍵的軟件部份,有國際電子設計自動化(EDA)大廠指出,EDA的關鍵不在於半導體生產的相關參數,而在於其中都有專利佈局的各項演算法,這方面大陸廠商很難突破。

今年9月15日,美國政府啟動了對華為的晶片禁令,因華為具有中共軍方背景並且偷竊商業和個人資料,禁令要求全球使用美國技術和設備的企業,在向華為供貨前,必須得到美國政府的許可。

中國無光刻機基礎器件

中共高調稱要在未來5年內投資9.5萬億自主研發晶片,自主生產晶片設備。

9月末曾有署名為ASML公司華裔工程師的人士發文表示,大陸企業無法生產用於製造光刻機的基礎器件,沒有基礎器件,說造光刻機就是天方夜譚;台積電是使用光刻機,而大陸半導體企業與台積電的差距非常大,談不上製造光刻機。◇