路透社獨家報道，ASML控股公司（阿斯麥）的研究人員表示，他們已經找到一種方法，可以提高關鍵晶片製造機器中光源的功率，到2030年前，晶片產量可提高50%。

ASML是全球唯一一家商用極紫外光刻機（EUV）製造商。EUV機器是台積電、Intel等晶片製造商生產先進計算晶片的關鍵工具。

ASML的EUV光源首席技術專家珀維斯（Michael Purvis）在接受路透社採訪時表示：「這不是一個彫蟲小技或類似的東西，我們可以在很短的時間內證明它可以發揮作用。」

他在該公司位於聖地牙哥附近的加州工廠發表講話時補充：「該系統可以在客戶提出的所有相同要求下產生1,000瓦的功率。」

對晶片生產至關重要的機器

EUV機器對晶片生產至關重要，美國兩黨政府都與荷蘭領導人合作，阻止它們被運往中國。中共斥資試圖研發極紫光刻機，但技術上和西方差距很大。

隨著周一首次披露的技術進步，ASML的目標是通過改進機器最具技術挑戰性的方面，來超越任何潛在的競爭對手。

這是為了產生具有適當功率和特性的EUV光，以大批量生產晶片。該公司研究人員找到了一種方法，可以將EUV光源的功率從現在的600瓦提高到1000瓦。該技術主要優點是，更大的功率意味著每小時可以生產更多晶片，從而有助於降低每個晶片的成本。

晶片的打印方式類似於照片，EUV光照射在塗有稱為光致抗蝕劑的特殊化學品的矽晶片上。有了更強大的EUV光源，晶片工廠需要更短的曝光時間。

ASML NXE EUV機器系列執行副總裁梵谷（Teun van Gogh）告訴路透社：「我們希望確保我們的客戶能夠以更低成本繼續使用EUV。」

每台機器上每小時處理約330片矽片

梵谷表示，到2020年代末（2030年前），客戶應該能夠在每台機器上每小時處理約330片矽片，而現在為220片。根據晶片大小，每個晶圓可以容納數十個到數千個器件。

為了產生波長為13.5納米的光，ASML的光刻機將熔融錫滴流射入腔室，在腔室中，巨大的二氧化碳激光器將它們加熱成等離子體。這是一種過熱的物質狀態，其中錫滴變得比太陽還熱並發出EUV光，由德國Carl Zeiss AG提供的精密光學設備收集並送入機器打印晶片。

周一披露的關鍵進展包括將錫滴數量增加一倍，達到每秒約100,000個，並使用兩個較小的激光脈衝將它們塑造成等離子體，而不是今天的機器使用單個成形脈衝。

「這非常具有挑戰性，因為你需要掌握很多東西、很多技術。」科羅拉多州立大學教授Jorge J. Rocca 對路透社說。他的實驗室專注於激光技術，並培訓了幾位ASML科學家。

「所取得的成果——1000瓦——相當驚人。」他說。

珀維斯表示，ASML相信其用於達到1,000瓦功率的技術將在未來帶來持續進步。他補充，「我們看到了一條相當清晰的通往1,500瓦的道路，並且沒有根本原因說明我們無法達到2,000瓦。」#

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