美擴大打擊 中國半導體行業雪上加霜

光刻機是大規模集成電路生產必不可少的核心設備。近日，美國連續出手打擊中國光刻設備的製造和供應，一方面將中國唯一光刻機生產商納入出口管制清單，另一方面聯合盟友限制對中國的供應，令中國半導體行業雪上加霜。

12月15日，美國商務部公布一批最新的針對中國實體企業的出口管制清單，其中，中國唯一的光刻機製造商上海微電子設備公司也被納入了管制清單。

作為中國唯一的光刻機製造商，上海微電子設備公司目前最先進的光刻機產品為SA600，據該公司網站介紹，該機型可滿足IC前道製造90納米關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求。中國媒體的分析說，該機型經過3次曝光可以實現28納米的工藝。

白宮今年10月宣布的半導體出口管制命令，限制了14/16納米以下的邏輯晶片設備，以及18納米以下DRAM內存晶片和128層以上的NAND閃存晶片的製造設備出口到中國。而上海微電子公司又被納入美國商務部的出口管制清單，很可能面臨更嚴厲的出口管制。

半導體產業鏈具有高度全球化的特點。以壟斷全球最先進光刻機市場的企業——荷蘭的艾司摩爾公司（ASML）為例，該公司開發的極紫外光刻設備（EUV）包含有10萬個零部件，由遍布全球的5,000多家供應商提供。

ASML的光刻機鏡頭由德國的蔡司（Carl Zeiss AG）壟斷，激光技術為美國Cymer公司所有，而關鍵的閥門則由法國公司提供。目前，任何一個國家都無法獨立生產光刻設備。

中低端光刻設備供應面臨風險

目前，華盛頓已確認與日本和荷蘭就收緊對中國的半導體製造設備出口進行談判。而彭博社的消息說，日本和荷蘭原則上已經同意加入美國主導的技術出口管制。

目前，全球的光刻機市場由三家公司壟斷，包括荷蘭的艾司摩爾、日本的尼康和佳能公司。據前瞻產業研究院整理數據，2020年，按照出貨的光刻機數量計算，艾司摩爾佔到63%的市場份額，佳能佔到30%，尼康佔到7%。

尤其是艾司摩爾，該公司是目前全球唯一能生產極紫外光刻機（EUV，應用於7納米以下的最先進工藝）的公司，在深紫外光刻機（DUV）領域（可用於14納米-130納米工藝）也佔到主導地位。

自2019年以來，荷蘭政府已限制ASML將其最先進的光刻設備運往中國，而華盛頓10月宣布的限制措施更進一步。

中國最先進的半導體製造商中芯國際在2020年12月被美國納入出口管制清單後，其業務就開始向28納米以上的成熟製程傾斜。而此次美國進一步擴大半導體設備出口之後，中芯國際立刻增加了28納米設備的採購預算，並支付大筆預付金欲鎖定相關設備的進口。

而中國最先進的存儲晶片製造商長江存儲據報道自從美國10月份發布禁令以來，已發出至少20份招標書，採購一系列晶片製造設備。

如果日本和荷蘭政府都配合美國一起對中國進行設備封堵，並將制裁範圍擴大到中低端光刻設備領域，對中國半導體企業而言將是致命打擊。尤其是艾司摩爾公司，該公司17家核心供應商中，有一半來自美國；公司三大股東中，兩家來自美國，分別是美國的資本國際集團（Capital Research and Management Company）和美國貝萊德集團（Capital Research and Management Company）；還有一家來自英國。台灣的台積電、韓國的三星等也持有艾司摩爾的股份，因此得以享有優先拿貨權。

此外，艾司摩爾由於訂單不斷，不向中國出貨對該公司的業務幾乎沒甚麼影響。

今年11月份艾司摩爾表示，該公司到2030年都不會受到全面禁止向中國銷售設備的影響。事實上，該公司目前無法滿足需求，可以將目前運往中國客戶的15% 的積壓訂單出售到其它地方。

中國半導體設備製造整體水平落後

不僅是光刻機，中國企業在半導體設備領域市場份額微小，技術落後於先進水平。

波士頓諮詢公司（BCG）與半導體工業協會（SIA）在去年4月發布的報告顯示，2019年，全球半導體設備製造總產值中，美國佔到41%的份額，日本佔32%，歐洲佔18%，韓國佔4%；而中國只佔了大約1%的份額。

中國國盛證券在今年6月份的分析報告中匯總了目前中國半導體設備製造商觸及的最先進技術節點。除了中微（上海）公司的矽蝕刻技術達到5納米技術節點外，其它工藝設備水平都相對落後。例如，瀋陽芯源在塗膠顯影機領域最先進技術節點僅達到65納米；北方華創的清洗設備達到28納米技術節點，薄膜和蝕刻設備的最新技術節點是14納米。

在技術薄弱的基礎上，如果西方國家全面對中國實施半導體設備禁運，中國不僅無力培養替代供應鏈，雙方技術差距還可能進一步擴大。